PVD真空镀膜装饰薄膜常用材料及其常用气体不同,制作出那些种类装饰颜色...
PVD真空镀膜装饰薄膜常用材料及其常用气体不同,制作出那些种类装饰颜色...
gsxq
- 2023-08-28
气体选择：PVD镀膜过程中，常使用氮气、氧气等气体作为反应气体。气体的选择根据所需的薄膜成分和性质来确定。 沉积参数：PVD镀膜的沉积参数包括靶材功率、沉积速率、沉积时间、沉积角度等。
PVD可以在不锈钢、铜、钛 锌铝合金等金属上镀制CrN. TiN. TiAlCN. TiCN. TiAlN。
实现钛金、玫瑰金、玫瑰红、紫金等颜色的薄膜镀膜通常需要不同的靶材和气体组合，具体如下： 钛金薄膜：可以采用Ti、TiAl、TiAlZr等靶材，使用氮气、氧气等气体作为反应气体。
PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
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