PVD可以在不锈钢、铜、钛 锌铝合金等金属上镀制CrN. TiN. TiAlCN. TiCN. TiAlN。
实现钛金、玫瑰金、玫瑰红、紫金等颜色的薄膜镀膜通常需要不同的靶材和气体组合,具体如下: 钛金薄膜:可以采用Ti、TiAl、TiAlZr等靶材,使用氮气、氧气等气体作为反应气体。
PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
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